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光觸媒分散機

一、產(chǎn)品名稱(chēng)概述:光催化劑高速分散機,光催化劑納米分散機,光催化劑高剪切分散機,光催化劑管線(xiàn)式分散機,光觸媒高速分散機
光觸媒分散機
二、光催化劑的簡(jiǎn)介

通俗意義上講觸媒就是催化劑的意思,光觸媒顧名思義就是光催化劑。催化劑是改變化學(xué)反應速率的化學(xué)物質(zhì),其本身并不參與反應。光催化劑就是在光子的激發(fā)下能夠起到催化作用的化學(xué)物質(zhì)的統稱(chēng)。

  • 產(chǎn)品型號:GM2000
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2022-09-30
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:1363
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產(chǎn)品詳情

一、產(chǎn)品名稱(chēng)概述:光催化劑高速分散機,光催化劑納米分散機,光催化劑高剪切分散機,光催化劑管線(xiàn)式分散機,光觸媒高速分散機

二、光催化劑的簡(jiǎn)介

通俗意義上講觸媒就是催化劑的意思,光觸媒顧名思義就是光催化劑。催化劑是改變化學(xué)反應速率的化學(xué)物質(zhì),其本身并不參與反應。光催化劑就是在光子的激發(fā)下能夠起到催化作用的化學(xué)物質(zhì)的統稱(chēng)。

三、光催化劑材料的種類(lèi)

世界上能作為光觸媒的材料眾多,包括二氧化鈦,氧化鋅),氧化錫二氧化鋯,硫化鎘等多種氧化物硫化物半導體,其中二氧化鈦因其氧化能力強,化學(xué)性質(zhì)穩定無(wú)毒,成為世界上當紅的納米光觸媒材料。在早期,也曾經(jīng)較多使用硫化鎘和氧化鋅作為光觸媒材料,但是由于這兩者的化學(xué)性質(zhì)不穩定,會(huì )在光催化的同時(shí)發(fā)生光溶解,溶出有害的金屬離子具有一定的生物毒性,故發(fā)達國家目前已經(jīng)很少將它們用作為民用光催化材料,部分工業(yè)光催化領(lǐng)域還在使用。

二氧化鈦是一種半導體,分別具有銳鈦礦,金紅石及板鈦礦三種晶體結構,其中只有銳鈦礦結構和金紅石結構具有光催化特性。

 
 

四、光催化原理

因為生產(chǎn)光催化劑的材料幾乎都是固體半導體材料,因此光催化又稱(chēng)為半導體光催化。光催化氧化的機理是用固體能帶理論來(lái)解釋的。

根據固體能帶理論,固體材料的能帶結構可以分為價(jià)帶、禁帶和導帶三部分。導體的導帶和價(jià)帶發(fā)生了重合即其禁帶寬度為零,所以導體可以導電;絕緣體的禁帶寬度很大以至于價(jià)帶的電子很難被激發(fā)使其躍遷至導帶,所以絕緣體不導電;半導體的禁帶寬度介于導體與絕緣體之間,所以其在一定條件下可以導電。

在半導體中,所有價(jià)電子所處的能帶就是所謂的價(jià)帶,比價(jià)帶能量更高的能帶便是導帶,介于價(jià)帶和導帶之間的空隙稱(chēng)之為禁帶。光催化氧化過(guò)程簡(jiǎn)單的說(shuō)就是價(jià)帶上的電子受到光照的激發(fā)躍遷至導帶,形成了電子和空穴,形成的電子-空穴對又引發(fā)了其他的一系列的反應。

五、光催化劑材料的分散

光催化材料應用中,一般需要將二氧化鈦分散到液體基料中,形成懸浮液,需要對光催化劑體系進(jìn)行研磨分散,使懸浮液(或乳化液)體系中的分散物微?;?、均勻化的處理過(guò)程,這種處理同時(shí)起降低分散物尺度和提高分散物分布均勻性的作用,使得光催化劑產(chǎn)品更穩定。結合多家客戶(hù)案例,推薦GMSD2000系列高速研磨分散機,兩級結構,先研磨后分散,轉速0-18000rpm,研磨分散效果好,粒徑小,均勻度高。


 

六、光催化材料分散機的特點(diǎn)

1、光催化材料分散設備采用上海SGN技術(shù),*創(chuàng )意,融化理念。將SGN高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,在原來(lái)GM2000系列的基礎上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(pán)(均質(zhì)盤(pán)、乳化盤(pán))。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種改良的膠體磨也稱(chēng)為“研磨分散機”。

2、SGN光催化材料納米分散機采用德國博格曼雙端面機械密封,在保證冷卻水的前提下,可24小時(shí)連續運行。而普通分散機很難做到連續長(cháng)時(shí)間的運行,并且普通分散機不能承受高轉速的運行。通過(guò)梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,高線(xiàn)速度的吸料式葉輪提供很強的切割力。

 

3、 GMSD2000系列光觸媒研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。一級由具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。光觸媒分散機

七、光催化材料研磨分散機選型表

 

標準流量(H2O) 

輸出轉速 

標準線(xiàn)速度 

馬達功率 

進(jìn)出口尺寸 

型號 

l/h 

rpm 

m/s 

kW 

 

GMSD 2000/4 

300-1,000

14000

44

2.2

DN25/DN15

GMSD 2000/5 

1,000-1.500

10,500 

44

7.5 

DN40 /DN 32 

GMSD 2000/10 

3,000 

7,300 

44

15 

DN50 / DN50 

GMSD 2000/20 

8,000 

4,900 

44

37 

DN80 /DN 65 

GMSD 2000/30 

20,000 

2,850 

44

75 

DN150 /DN 125 

GMSD 2000/50 

40,000 

2,000 

44

160 

DN200 /DN 150 

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